窒化ケイ素Si3n4セラミック基板

窒化ケイ素Si3n4セラミック基板

窒化ケイ素 Si3n4 セラミック基板は、エレクトロニクス産業から航空宇宙産業に至るまで、さまざまな用途に使用される先進的な材料の一種です。ユニークな特性の組み合わせにより、入手可能なセラミックの中で最も多用途で耐久性のあるセラミックの 1 つとなります。窒化ケイ素は非常に硬くて強い材料であり、摩耗や引き裂きに対して非常に耐性があります。優れた熱安定性を備えているため、特性が劣化したり失われたりすることなく高温に耐えることができます。さらに、電気絶縁性が高く、電気部品の絶縁と保護に優れています。

窒化ケイ素セラミック基板は、優れた熱伝導性と放熱性を生かして、パワー半導体や発光ダイオード（LED）などのさまざまな電子部品に使用されています。また、その優れた強度と靭性により、高速ベアリングや切削工具などの機械用途にも使用されます。航空宇宙産業では、その優れた耐熱衝撃性と耐酸化性により、タービン部品などの高温用途に窒化ケイ素セラミック基板が使用されています。

全体として、窒化ケイ素セラミック基板は幅広い用途に使用できる優れた材料です。その耐久性、熱安定性、電気絶縁性、機械的強度により、さまざまな業界で人気があります。

最新の販売、低価格、高品質の窒化ケイ素セラミック基板を購入するために当社の工場に来ていただくことを歓迎します。トルボはあなたとの協力を楽しみにしています。

Torbo®窒化シリコン Si3n4 セラミック基板

項目: 窒化ケイ素 Si3n4 セラミック基板

材質:Si3N4

色:グレー

厚さ:0.25-1mm

表面処理：ダブルポリッシュ

かさ密度：3.24g/㎤

表面粗さRa：0.4μm

曲げ強度:(3点法):600-1000Mpa

弾性率:310Gpa

破壊靱性(IF法)：6.5MPa・√m

熱伝導率：25℃ 15～85W/(m・K)

誘電損失率:0.4

体積抵抗率：25℃＞1014Ω・㎝

破壊強度:DC >15㎸/㎜